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湖北工業(yè)大學(xué)理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院院徽征集啟事

信息發(fā)布：征集碼頭網(wǎng) 點擊次數(shù)：9650 更新時間：2021-10-20 截止日期：2021-11-10

活動主題

理學(xué)院|院徽設(shè)計大賽

院徽是一個學(xué)院的形象標志，

它不僅代表著學(xué)院的面貌特色、

體現(xiàn)著學(xué)院的專業(yè)風(fēng)采，

也弘揚湖北工業(yè)大學(xué)、

理學(xué)院-芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院歷史傳統(tǒng)、

塑造學(xué)院形象、

傳遞學(xué)院文化精神、

展現(xiàn)學(xué)院的精神風(fēng)貌和發(fā)展愿景。

有能力的你還在等待什么？

趕緊行動吧！

為了讓理院的院徽深入人心！

讓我們大家一起！

揮舞起手上的畫筆！

豐厚現(xiàn)金等你來拿！

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參賽人員

面向湖北工業(yè)大學(xué)全體師生

海內(nèi)外校友

社會各界熱心人士

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活動時間

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2021年10月18日

2021年11月30日

活動要求和流程

01-內(nèi)容要求

1.作品需符合比賽主題，能結(jié)合理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院的辦學(xué)和發(fā)展歷史，充分展現(xiàn)學(xué)院的內(nèi)在精神和文化內(nèi)涵（學(xué)校網(wǎng)站和學(xué)院網(wǎng)站可見介紹和態(tài)）。

學(xué)校官網(wǎng)：https://www.hbut.edu.cn/index.htm

學(xué)院官網(wǎng)：https://lxy.hbut.edu.cn/

2.外觀要求構(gòu)思精巧，美觀大方，創(chuàng)意新穎且有時代風(fēng)范。

3.作品富于美感和視覺沖擊力，應(yīng)遵循標識藝術(shù)創(chuàng)作規(guī)律，符合標識設(shè)計表達規(guī)范，便于制作紀念徽章、旗幟等各類延伸推廣應(yīng)用。

4.所有參賽作品均需以矢量文件和高質(zhì)量JPG格式圖稿的形式同時提交，隨同作品一并提交理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院院徽設(shè)計大賽報名表（附表1）

02-征集方式

征集截止時間為11月10日晚上12:00。電子郵箱：1369699041 qq.com。郵件主題填寫“理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院院徽設(shè)計大賽征集”，郵件內(nèi)容將矢量文件和高質(zhì)量JPG格式圖稿以及附表1一并打包發(fā)送。報名表二維碼以下所示

03-篩選方式

線上線下初選（11.10-11.17）

線上線下復(fù)選（11.17-11.24）

最終審定（11.24-11.30）

作品篩選初選使用專家評審，評審入圍的作品方可參加復(fù)選和審定環(huán)節(jié)。復(fù)選和審定環(huán)節(jié)使用線上、線下投票，現(xiàn)場答辯來計分排名，從高到低錄取，分數(shù)百分制，各環(huán)節(jié)分數(shù)占比為

線上投票15%

線下投票15%

評委評審70%

design competition

大賽設(shè)置前三名和決賽入圍獎，前三名證書加現(xiàn)金獎勵，決賽入圍獎發(fā)放證書和紀念品，獎金設(shè)置如下：

第一名800RMB（1名）

第二名500RMB（1名）

第三名300RMB（1名）

注意事項

1.應(yīng)征作品應(yīng)為未公開發(fā)表過的原創(chuàng)作品，不得侵犯任何第三方的合法權(quán)益。作品本身存在權(quán)利瑕疵或存在抄襲、借用等侵權(quán)行為，由作者本人承擔(dān)相關(guān)法律責(zé)任，并取消參選資格。

2.所有入圍、錄用作品的知識產(chǎn)權(quán)和使用權(quán)均歸湖北工業(yè)大學(xué)理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院所有。學(xué)院有權(quán)對入圍、錄用作品進行任何形式的使用、開發(fā)、修改、授權(quán)許可或保護等活動。

3.所有應(yīng)征作品均不退稿，請作者自留底稿。

4.征集結(jié)束后，學(xué)院將組織專家對應(yīng)征作品進行評審，經(jīng)領(lǐng)導(dǎo)審定后采用。

5.本次征集活動最終解釋權(quán)歸湖北工業(yè)大學(xué)理學(xué)院·芯片產(chǎn)業(yè)學(xué)院所有。

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編輯▌黃佳倫

審核▌李亞男